The effect of iridium precursor on oxide-supported iridium catalysts prepared by atomic layer deposition

Tekijät: Vuori, H.; Pasanen, Antti; Lindblad, M.; Valden, Mika; Niemela, M. Veringa; Krause, A. O. I.
Tekijöiden määrä: 6
Kieli: englanti
Julkaisutyyppi: A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Julkaisufoorumiluokka : 2
JUFO-ID: 51536
Julkaisuvuosi: 2011
ISSN: 0169-4332
Volyymi: 257
Numero: 9
Sivunumerot: 4204 - 4210
Tieteenala: Luonnontieteet
Fysiikka
Koulutusala: Teknillistieteellinen
Paikalliset tekijät ja heidän affiliaationsa: Pasanen, Antti - Tampereen teknillinen yliopisto, Optoelektroniikan tutkimuskeskus
Valden, Mika - Tampereen teknillinen yliopisto, Optoelektroniikan tutkimuskeskus
Sarja: Applied Surface Science
Linkit: https://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2010.12.021
Organisaation sisäinen affiliaatio: Tampereen teknillinen yliopisto, Optoelektroniikan tutkimuskeskus