Iridium metal and iridium oxide thin films grown by atomic layer deposition at low temperatures

Tekijät: Hämäläinen, Jani; Hatanpää, Timo Tapio; Puukilainen, Esa; Sajavaara, Timo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Tekijöiden määrä: 6
Kieli: englanti
Julkaisutyyppi: A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Julkaisufoorumiluokka : 3
JUFO-ID: 60943
Julkaisuvuosi: 2011
ISSN: 1364-5501
0959-9428
Volyymi: 21
Sivunumerot: 16488 - 16493
Tieteenala: Luonnontieteet
Kemia
Koulutusala: Luonnontieteellinen
Paikalliset tekijät ja heidän affiliaationsa: Puukilainen, Esa - Helsingin yliopisto
Hämäläinen, Jani - Helsingin yliopisto
Leskelä, Markku - Helsingin yliopisto
Ritala, Mikko - Helsingin yliopisto
Hatanpää, Timo Tapio - Helsingin yliopisto
Sajavaara, Timo - Jyväskylän yliopisto
Sarja: Journal of materials chemistry
Linkit: https://dx.doi.org/10.1039/C1JM12245B
Organisaation sisäinen affiliaatio: Helsingin yliopisto, Epäorgaanisen kemian laboratorio Helsingin yliopisto, Kemian laitos Jyväskylän yliopisto, Fysiikan laitos