Nucleation and conformality of iridium and iridium oxide thin films grown by atomic layer deposition

Julkaisussa: Langmuir
Tekijät: Mattinen, Miika; Hämäläinen, Jani; Gao, Feng; Jalkanen, Pasi; Mizohata, Kenichiro; Räisänen, Jyrki; Puurunen, Riikka; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Tekijöiden määrä: 9
Kieli: englanti
Julkaisutyyppi: A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Julkaisufoorumiluokka : 2
JUFO-ID: 62432
Julkaisuvuosi: 2016
ISSN: 1520-5827
0743-7463
Emojulkaisun nimi: Langmuir
Volyymi: 32
Numero: 41
Sivunumerot: 10559 - 10569
Tieteenala: Luonnontieteet
Kemia
Paikalliset tekijät ja heidän affiliaationsa: Hämäläinen, Jani - Helsingin yliopisto
Räisänen, Jyrki - Helsingin yliopisto
Mizohata, Kenichiro - Helsingin yliopisto
Leskelä, Markku - Helsingin yliopisto
Mattinen, Miika - Helsingin yliopisto
Ritala, Mikko - Helsingin yliopisto
Jalkanen, Pasi - Helsingin yliopisto
Gao, Feng - Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Puurunen, Riikka - Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Sarja: langmuir
Aiheet:
Linkit: https://dx.doi.org/10.1021/acs.langmuir.6b03007
Organisaation sisäinen affiliaatio: Helsingin yliopisto, Matemaattis- luonnontieteellinen tiedekunta