Atomic and Molecular Layer Deposition for Surface Modification

Tekijät: Vähä-Nissi, Mika; Sievänen, Jenni; Salo, Erkki; Heikkilä, Pirjo; Kenttä, Eija; Johansson, Leena-Sisko; Koskinen, Jorma T.; Harlin, Ali
Tekijöiden määrä: 8
Kieli: englanti
Julkaisutyyppi: A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Julkaisufoorumiluokka : 2
JUFO-ID: 61672
Julkaisuvuosi: 2014
ISSN: 0022-4596
Volyymi: 214
Numero: June
Sivunumerot: 7 - 11
Tieteenala: Tekniikka
Teknillinen kemia, kemian prosessitekniikka
Paikalliset tekijät ja heidän affiliaationsa: Johansson, Leena-Sisko - Aalto-yliopisto
Harlin, Ali - Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Kenttä, Eija - Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Vähä-Nissi, Mika - Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Heikkilä, Pirjo - Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Sarja: journal solid state chemistry
Aiheet:
Linkit: https://doi.org/10.1016/j.jssc.2013.11.040
https://dx.doi.org/10.1016/j.jssc.2013.11.040
Organisaation sisäinen affiliaatio: Aalto-yliopisto, Department of Bioproducts and Biosystems