Atomic layer deposition coated filters in catalytic filtration of gasification gas

Julkaisussa: Catalysts
Tekijät: Viertiö, Tykö ; Kivelä, Viivi; Putkonen, Matti; Kihlman, Johanna; Simell, Pekka
Tekijöiden määrä: 5
Kieli: englanti
Julkaisutyyppi: A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä
Julkaisufoorumiluokka : 1
JUFO-ID: 75712
Julkaisuvuosi: 2021
ISSN: 2073-4344
Emojulkaisun nimi: Catalysts
Volyymi: 11
Numero: 6
Tieteenala: Luonnontieteet
Kemia
Paikalliset tekijät ja heidän affiliaationsa: Kihlman, Johanna - Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Putkonen, Matti - Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Simell, Pekka - Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Viertiö, Tyko - Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Kivelä, Viivi - Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Putkonen, Matti - Helsingin yliopisto
Sarja: catalysts
Aiheet:
Linkit: https://doi.org/10.3390/catal11060688
https://helda.helsinki.fi/handle/10138/330851
https://dx.doi.org/10.3390/catal11060688
Organisaation sisäinen affiliaatio: Helsingin yliopisto, Matemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta